SQX系列手动清洗机采用模块化标准工艺，主要用于处理半导体集成电路、半导体材料、LED、OLED、纳米加工、MEMS、TSV等工艺制程中的湿化学手动操作设备，其作用是去除晶片表面的有机物(包含光刻胶)、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物。