KSJ系列蚀刻清洗机采用模块化标准蚀刻工艺，适用于半导体集成电路、半导体材料、OLED、红外器件等行业，用于各种半导体基片及类似材料制造过程中湿化学刻蚀工艺。工艺槽可根据客户需求配备喷淋、溢流、循环、抛动、转动、恒温控制、超声/兆声等不同的产品工艺。我们可根据用户要求提供工艺配置及技术支持。